在硅片【piàn】表【biǎo】面沉【chén】积一层氮化硅减反射膜，以增加入【rù】射在硅片上的光的透射【shè】，减少反【fǎn】射，氢原子【zǐ】搀杂【zá】在氮化硅中附加了氢【qīng】的【de】钝化作用。
镀膜原理
光照【zhào】射在硅片表面时，反射会使光损失约三分之【zhī】一。如果在硅表【biǎo】面有【yǒu】一层或多【duō】层合适的薄膜【mó】，利用薄膜干涉原理，可以【yǐ】使光【guāng】的【de】反射【shè】大【dà】为【wéi】减少【shǎo】，这【zhè】种膜称为太阳电池的【de】减反射膜(ARC，antireflection coating)。
管式PECVD的【de】原理就是通过脉冲射【shè】频【pín】激发受热的稀薄气体进行辉【huī】光放【fàng】电形成等【děng】离子【zǐ】体【tǐ】，通过两【liǎng】片相对应的石墨片加【jiā】相反的交变电压使等离【lí】子在极【jí】板间加速撞击气【qì】体，运动到硅片表面【miàn】完成镀膜【mó】过程。
三、镀膜的相关介绍
1、机台照片与工作原理图
2、等离子体
所谓等离子体，是指气体在一定条【tiáo】件下受【shòu】到高【gāo】能【néng】激发【fā】，发生电离，部分外【wài】层电子脱离原【yuán】子核，形成电【diàn】子、正离子和中性粒子混合组成【chéng】的一种形【xíng】态【tài】，这种形态就称【chēng】为【wéi】等离子【zǐ】态。
等离子体在化学气相沉积中有如下作用：
(1).将【jiāng】反应物中的气【qì】体【tǐ】分子【zǐ】激活成活性离【lí】子【zǐ】，降低反应所需的温度;
(2).加速【sù】反应物在基片表面【miàn】的扩散作用【yòng】(表面迁移作【zuò】用【yòng】)，提高成膜速度;
(3).对于基体【tǐ】表面及膜层表面具【jù】有溅射清洗作用，溅射【shè】掉【diào】那些结合不牢的粒子【zǐ】，从而【ér】加强了形【xíng】成的薄膜和【hé】基【jī】片的【de】附着力;
(4).由于反应【yīng】物中的【de】原子、分子、离子和【hé】电【diàn】子【zǐ】之间的碰撞、散射【shè】作用，使形成的薄膜厚度均匀
3、镀膜的方式分类
间接【jiē】等离子：等离子没有直【zhí】接和【hé】硅片接【jiē】触，基片不接【jiē】触激发【fā】电极( Roth&Rau)
直接等【děng】离子：等【děng】离【lí】子直接接触硅片【piàn】，基【jī】片位于一个电极上，直接接触等【děng】离子体【tǐ】( Centrotherm 、岛津)
四、影响镀膜效果的主要参数
影响镀膜效果主要的机器本身工艺参数有：
(1).镀膜工艺时候真空压力
(2).镀膜工艺温度
(3).镀膜工艺
气体流量比
(4).镀膜工艺
总气体流量
(5).射频功率以及脉冲开关时间
(6).等离子体的沉积方向
由于管式PECVD 是直接【jiē】镀膜过程，镀膜效果会受【shòu】到很【hěn】多外界因素的干【gàn】扰，
并且这些干扰对膜的质量产生很严重的影响;
(1).石墨舟本身的使用状况
(2).硅片表面形貌的差异
管式PECVD 镀膜的各工艺参数具体控制范围
1.镀膜工艺时候真空压力
真空压力对镀膜速【sù】率而言很【hěn】重要，是成膜较为【wéi】关键的【de】因素，目【mù】前在尚德镀膜
工艺保持稳定的情况下，管式PECVD 的真空压力为;
156 多晶：1700 mTorr ，大【dà】约相当于226.65 Pa。
125 单晶【jīng】：1700 mTorr ，大约相当于【yú】226.65 Pa。
2.镀膜工艺温度
管式PECVD 工艺时温度为430℃--450℃
5.射频功率以及脉冲开关时间
射频功率【lǜ】也是【shì】影响镀膜成膜【mó】的较重要的因素，也是优化【huà】工艺时必【bì】须考虑的因素【sù】，目前射频功率【lǜ】新工艺射频功率【lǜ】为【wéi】;
6.等离子体的沉积方向
插【chā】片时硅片【piàn】载体【tǐ】被工艺点固定，在硅片和石墨舟片接触很紧密【mì】的情况【kuàng】下(即硅片【piàn】本身【shēn】不弯【wān】曲，插片不翘起)，等离子基本上是【shì】垂直【zhí】撞击到【dào】硅片表【biǎo】面。
PECVD 膜的作用、简述膜的特性
1、氮化硅膜的减反原理
光照【zhào】射【shè】在硅【guī】片表【biǎo】面时，反射会使光损失约三分之一。如果在硅表面有【yǒu】一层或【huò】
多层合适的【de】薄膜，利用薄膜干【gàn】涉原理，可以【yǐ】使光的反射大为减【jiǎn】少，这种【zhǒng】膜称为太【tài】
阳电【diàn】池的减反射【shè】膜(ARC，antireflection coating)。
照射到硅片上的【de】光【guāng】因【yīn】为反射不能全部被硅【guī】吸收。反射百分【fèn】率的大小取决于硅【guī】
和外界透明介质的折射率。垂直入射时，硅片表面的反射率R 为:
在真空或大气中【zhōng】，如果硅表面没有减反【fǎn】射膜，长【zhǎng】波范围【wéi】(1.1μ m)入射光损【sǔn】失
总量的34%，短波范围(0.4 μ m)为54%。即使【shǐ】在硅表面【miàn】制作了【le】绒【róng】面，由于入射【shè】光产生【shēng】多次反【fǎn】射而增加了吸收，但也有约14%以上的反【fǎn】射损失。
如【rú】果在硅的表面制【zhì】备一层透明的介质膜，由【yóu】于介【jiè】质【zhì】膜的两个界面上的反【fǎn】射光
相互干涉，可以在很宽的波长【zhǎng】范围内降低反【fǎn】射率。此【cǐ】时反【fǎn】射率由下式给【gěi】出：
式中【zhōng】, r1、r2 分别是外界【jiè】介质一膜和【hé】膜一硅界面上的【de】菲涅尔反射系数;△为
膜层厚度引起的相位角。它们可分别表示为:
其中，n0, n 和ns:分别为外界【jiè】介质【zhì】、膜层和硅的折射率，λ 0 是【shì】入射【shè】光的【de】
波长，d 是膜层的厚度。
当波【bō】 长 为λ 0 的光垂直入射时【shí】，如果【guǒ】当nd= λ 0 /4 ，则【zé】由式
为【wéi】了使【shǐ】反射损失减到最小，即【jí】希望Rλ 0 =0, 应有：
硅的折射率nsi=3.9，n0=1 :
从裸露的硅【guī】表面和从【cóng】覆盖【gài】有折射【shè】率为1.9 和【hé】2.3 的减反射【shè】膜的硅表面反射
的正常入射光的百分比与波长的关系：
2、氮化硅膜的钝化效果
PECVD 沉积【jī】SixNy 薄膜有一定程度的表面损伤【shāng】，同时薄膜中有较高【gāo】含量【liàng】的氢，
容易和空位形成【chéng】氢一空位对【duì】{V. H}+。空位还【hái】能增强氢的扩散，使氢【qīng】与缺陷及晶【jīng】
界处的悬挂键【jiàn】结合，从而减【jiǎn】少界面态密【mì】度和复合中心。正【zhèng】电荷{V. H}+也改善了【le】
SixNy/Si 的界面状态。很多文献资料显【xiǎn】示【shì】，有效少【shǎo】数载流子【zǐ】寿【shòu】命和SixNy 膜【mó】中
的氢含量【liàng】由一【yī】定的关系【xì】。多数情况下【xià】，氢含量较高【gāo】，少【shǎo】子寿命也较大。但【dàn】沉积温度改变时有所不同，可能是温【wēn】度的升高更【gèng】有利于粒子的运动，使SixNy 膜中更【gèng】多的氢溢【yì】出，到达界面或进【jìn】入硅【guī】中，消除悬挂键的【de】活性【xìng】，从而【ér】获得更高的少子寿【shòu】命。
这样，薄膜中的氢含量有可能降低。
合适条件的后退【tuì】火【huǒ】能够进一步增强氢和氢一【yī】空位对{V. H}+的【de】扩散，从而降
低表【biǎo】面【miàn】复合速【sù】率，获【huò】得更好的【de】钝【dùn】化效果。但是退火温度过高时，SixNy 膜和硅中的氢都【dōu】会向外扩散溢出，使【shǐ】氢含量迅速减少，少子寿命急剧【jù】下【xià】降，钝化效果消失。
PECVD 沉积【jī】氮【dàn】化硅【guī】膜后，单晶硅少子寿命的提高主要【yào】是【shì】因为好的表面钝化【huà】。
对于多晶硅和【hé】其他低质量的硅片【piàn】(如硅带)，因为体内具【jù】有【yǒu】大【dà】量的【de】空位、缺陷和【hé】晶界【jiè】等，除了表面钝【dùn】化效果。因此，低质【zhì】量硅片的氢钝化效果【guǒ】更明显。
3、氮化硅膜的抗干扰效果
氮化规的主要性质是【shì】对 H O 2 、O、Na、Al、Ga、In 等都具有极强【qiáng】的扩散阻
挡能力，使它成为一种较理想的保护电池的材料。
4、膜的特性
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5、氮化硅颜色与厚度对照表:
管P常见的异常情况
边缘水纹
原因：因2#HF槽【cáo】吹干【gàn】效【xiào】果不佳，导致【zhì】正面边缘生产洛合物【wù】，再加【jiā】上碱洗【xǐ】不干净最终导致边缘【yuán】水纹;
解决：改善2#槽吹干效果，将碱槽浓度加大
2.红片
原因：(1).沉积时间过短;
(2).减薄量过低;
(3).石墨舟使用次数过多
(4).石墨舟预处理效果不佳
解决：(1).根据实际情况调整镀膜时间;
(2).根【gēn】据已【yǐ】镀膜完片子的情况，结合对应【yīng】的减【jiǎn】薄量，实时调【diào】整镀膜时间【jiān】;
(3).检查【chá】操作记录，确认舟已使用多少次，如【rú】果使用次【cì】数过多【duō】就要求员工将【jiāng】石【shí】墨【mò】舟作刻蚀处【chù】理
(4).对该石墨舟尽早做刻蚀处理
3.淡蓝
原因：(1).沉积时间过长;
(2).减薄量过高;
解决：(1). 根据实际情况调整镀膜时间;
(2).根据已镀【dù】膜完片子的情【qíng】况，结合对应的减薄量【liàng】，实【shí】时调整镀膜【mó】时间;
4.镀膜呈彩虹状
原因：弯曲片;
解决：对于弯曲片【piàn】，因Centrotherm工艺【yì】原【yuán】理【lǐ】所【suǒ】限，没有办法，所【suǒ】以弯曲片只能在平板机【jī】器上做;
5.石墨舟掉片子，如下图所示：
原因：员工上料不牢，在机内碎片;
解决：掉了一【yī】片，就导【dǎo】致【zhì】了上【shàng】面两片异常【cháng】片【piàn】，对于右边这片肯定是要返工的;而左边【biān】这片【piàn】，图中【zhōng】所【suǒ】看到的是硅片的背面，而它【tā】的正面是好的，所以员工常会将【jiāng】这【zhè】样的片子留下面，下面是这种片【piàn】子的电性能【néng】：
从上面的数据中可以【yǐ】看出，这样的【de】片子肯定是Jo片，所【suǒ】以【yǐ】这种【zhǒng】片子也是一定要返工【gōng】的;
6.异常色差，如下图所示：
原因：制绒槽的风刀堵住所致;
解决：更换风刀;
7.边缘色斑印，
如下图所示，镀膜后该区域依然较明显：
原因：(1).清洗间出来的片子吹不干;
(2).石英舟不干净;
解【jiě】决【jué】：(1).检查【chá】到底是什么原【yuán】因导【dǎo】致，是酸洗不【bú】脱水还是风刀吹不干导致，视实际情况【kuàng】解决;
(2).从上图【tú】可以看【kàn】出，边缘的色斑【bān】形状规则【zé】，是石英舟的支撑杆处出【chū】现的【de】，须跟踪【zōng】是【shì】哪个石英舟导致，将该石英舟停【tíng】用作清洗;
8.工艺圆点大
原因：石墨舟的固定点磨损过深导致
解决：让设备人员将石墨舟拆洗，更换石墨片;
平板部分
9.Roth&Rau的可控参数
(1). 压强0.2mbar～0.3mbar
温度350℃～400℃
微波功率2800W～3600W
SiH4(0sccm～2000sccm)和NH3(0sccm～2000sccm)，SiH4和NH3总气流量控制在2000sccm，而NH3和【hé】SiH4的比率【lǜ】控制在2.9～3.6;
带速150cm/min～170 cm/min
上面这些参数是常规调整参【cān】数【shù】，可【kě】对【duì】单框整体的膜厚【hòu】和【hé】折射率进行控制;
(2).进料腔的加热时间，进料腔和出料【liào】腔冲NH3的时【shí】间和流量，进料腔、预热腔【qiāng】和【hé】工艺腔的【de】加热器的输出功【gōng】率，微波发【fā】生器的开关时间(基本【běn】没修【xiū】改过【guò】);
第二组这些参数主要是调整温度、压强和等离子体浓度的均匀性;
10.膜厚与折射率不匹配
原因：(1).工艺腔压强异常;
(2).总气流和气流比率超出界限;
(3).工艺腔严重漏气(具体参看15) ;
解【jiě】决：(1).检查工艺参数，是【shì】否【fǒu】被【bèi】在【zài】线修改，工艺【yì】腔的【de】压强【qiáng】基本都是0.25mbar，不能过低，比如不能小于0.2mbar，如果压强过低的话，膜的【de】折射率会【huì】很小1.8～1.9,且膜厚反而会偏厚;压强为0.1mbar时，电性能【néng】如下：
(2).也需检查工艺参数是否被修改，
11.石墨框有一边边缘或一道出现发红现象(沿进框方向)
原因：(1).石英管的使用时间
(2).工艺腔内掉片
(3).石英管【guǎn】因其【qí】它原【yuán】因导【dǎo】致其表面残留的氮化硅厚度不【bú】均，从而导【dǎo】致微波受到【dào】削减
(4).特气气孔堵塞
(5).实际微波功率偏低
解决：(1).如果是石英管已用时间过长，督促尽早更换石英管
(2).开腔将碎片去除
(3).更换石英管
(4).这种情况较难【nán】发【fā】现，所以只能督促设备人员在维护【hù】时，清理干【gàn】净，用直【zhí】径1mm左右【yòu】的器具将气【qì】孔清理;
(5).如(3).中说的，并不一定是微波功【gōng】率本身【shēn】偏低，但可以调整其解决已有的问题【tí】，如【rú】果是左【zuǒ】边偏红【hóng】的【de】话，可以适【shì】当提高右边微波的【de】功率;
12.机器导致掉片
原因：(1).如【rú】果是机【jī】器内部掉片【piàn】，内部压强差异导【dǎo】致的可能性更大，
(2).机器外部掉片，则原因主要是传输带不平整导致
(3).石墨框的钩子和档针变形也会导致
(4).员工放片不到位也会导致
措施：(1).检查各腔体【tǐ】单周期内的压强变化趋势，特别是四【sì】个【gè】腔门在【zài】开关前后的【de】压强【qiáng】变化【huà】
(2).让设备人员排除传输带问题
(3).跟踪确切是哪个框在特定位置掉片，将其停用;
(4).要求员工进框前，轻敲石墨框检查一下;
13.沿进框方向出现单【dān】框最前面2～3排或最后面【miàn】2～3排整体【tǐ】发红，如下图所示【shì】;
原【yuán】因：因预热腔或【huò】冷却腔传【chuán】动速度出现异常【cháng】，和工艺腔【qiāng】匹配出【chū】现问题;
解决【jué】：让设备人员将设【shè】备软【ruǎn】件重【chóng】新运行后即可解决【jué】;(属于软件问【wèn】题)
14.单框五道之间出现严重色差;
原因：工艺腔与外部连通，出现轻微漏气;
解决：开腔后会发现膜较厚的那道对应的【de】工艺腔的腔壁处【chù】也【yě】会【huì】有发白物质【zhì】，更【gèng】换石英【yīng】管;
也可【kě】以在电脑操作界面【miàn】上【shàng】确认各个腔体的漏气情况，先【xiān】将要【yào】确【què】认的腔体抽成【chéng】真空，然后将其处于待机状态，察看压【yā】强【qiáng】升高的速度，标【biāo】准是<0.0026mbar/min;
15.整框片子的膜颜色偏暗、发紫;
原因：工艺腔与外部连通，出现较严重的漏气;
解决：首【shǒu】先【xiān】从外观上看【kàn】，就【jiù】能发现很异常了，测试【shì】其膜厚和折射率会发现它们【men】之间不【bú】匹配，比如膜厚85而折射【shè】率【lǜ】只有1.8～1.9。出现这种情况一【yī】般是因石英【yīng】管的密【mì】封【fēng】圈损坏和【hé】石英管【guǎn】爆裂导致【zhì】，具体导致上面两个原因的【de】原因【yīn】有冷却水问题导致期间烧坏、石英【yīng】管【guǎn】使用时间过长、石英管质量【liàng】较差等等;
上【shàng】面【miàn】这张图片就是在石英管的密封圈【quān】烧坏【huài】后，腔盖的【de】外观，在第【dì】四根和第八根【gēn】石英管处明显【xiǎn】有【yǒu】发白的氧化硅类物质;
上面【miàn】的两张图片【piàn】是检验膜好坏较方便的方法【fǎ】，即用【yòng】酒精滴【dī】到膜上面，如果如左图【tú】所示【shì】，酒精下膜颜【yán】色【sè】变化不【bú】大【dà】的话【huà】说明膜的致密性还正常;如果膜有异常的话，颜色【sè】会变化很大，比如右【yòu】图都已经变为【wéi】硅本【běn】色了;
16.单片色差、单片发红或单片偏淡
原因：沉积时间、绒面差异导致;
解决：如【rú】果整【zhěng】框发红或偏淡，那么多【duō】数是沉积时【shí】间过短【duǎn】或过【guò】长所致;但如【rú】果是随机【jī】的某一位置【zhì】发【fā】红、偏淡或单【dān】片色差，则主要是片与片之【zhī】间或【huò】单片【piàn】的绒面【miàn】差异导致，且在镀膜前【qián】，仔细观察就可以看出绒面的差异;
17.卡框
原因：(1).碎片挡住传感器;
(2).传【chuán】输系统在手动模式下，各个马【mǎ】达【dá】就【jiù】不会按自【zì】动程序运【yùn】行了;
(3).出料腔的气压达不到要求;
(4).其它特殊异常情况，比如【rú】：冷却水停、加热器报【bào】警、微【wēi】波报【bào】警【jǐng】等【děng】;
(5).腔体之间的传感器匹配出现问题，
解【jiě】决【jué】：(1).如果碎【suì】片挡住传感【gǎn】器，传感【gǎn】器会处于常亮状态，这就需【xū】要设备【bèi】人员来
解决;
(2).出现卡框【kuàng】情况，自【zì】己先【xiān】检查一下传输系统是否在【zài】手动【dòng】模式下，如果是则将其切【qiē】换为自动模式;
(3).可【kě】能是出料【liào】腔的密【mì】封性不佳，让设【shè】备人员【yuán】检查出【chū】口出是否有【yǒu】碎片，有的话将其清理;
(4).这些特殊异常情况就需要联系设备、设施人员共同解决;
(5). 传【chuán】感器的匹配【pèi】问题属于软件问题【tí】，软件升级后就没有出现这个问题【tí】;
18.折射率低
原因：(1).NH3和SiH4流量比不恰当;
(2).工艺腔的压强过低;
(3).工艺腔的压强过高;
解决【jué】：(1).出现【xiàn】流量比不恰【qià】当的可能较【jiào】小，如果是这一部分【fèn】出现【xiàn】问题【tí】的【de】话，估计是特气的流量计或者特气的压力【lì】流【liú】量出现问题;
(2).如【rú】果工艺腔的压【yā】强【qiáng】低于【yú】0.2mbar后，压强对折【shé】射率的影响将会非常明显;
(3).这里说的工艺腔压强过高，主要是指工艺腔的情况;
19.如下图所示：
镀膜前 镀膜后
原因：硅片表面未吹干，有残留水液;
解决：调整风刀;
20.一种色斑，如下图所示：
原因：手指印;
解【jiě】决：目前主【zhǔ】要认为是清洗【xǐ】的【de】上下料和刻【kè】蚀的【de】上【shàng】下料，上【shàng】面的两张图片就是清洗下料手摸导致的，解决方法【fǎ】员工技能和员【yuán】工意识;
特殊气体的特性介绍
氨气 (NH3)
1、特性:
无【wú】色有刺激性恶臭的气体。易【yì】溶于水、乙醇、乙醚【mí】。主要用作【zuò】制【zhì】冷剂【jì】及【jí】制取【qǔ】氨盐和氮肥。
2、危险性
易【yì】燃，燃烧产物【wù】为氧化【huà】氮、氨。与空气混合【hé】能形成爆【bào】炸性混合物，若遇【yù】明火或高【gāo】热【rè】能引起燃烧爆【bào】炸。与氟、氯等能发生剧烈的化学反【fǎn】应。若遇【yù】高热，容器内【nèi】压增大，有开列【liè】和爆炸的危险。
低浓度氨对粘膜有刺激作用【yòng】，高浓度可造成组织【zhī】溶解性坏死【sǐ】，引起化【huà】学性肺炎及【jí】灼伤【shāng】。急性【xìng】中毒，轻【qīng】者表现为皮肤、粘膜刺激反应，出现鼻炎【yán】、咽【yān】炎、器官及支气管【guǎn】炎，可有【yǒu】角膜及皮肤灼伤。重度者出现喉头水肿，声音狭窄【zhǎi】，呼吸道粘【zhān】膜细胞脱【tuō】落，器【qì】官阻【zǔ】塞而【ér】窒息，可有中毒性肺【fèi】水肿【zhǒng】和肝损伤【shāng】。氨可引起【qǐ】发射性呼吸停止。如【rú】氨溅入眼内，可致晶体浑浊，角膜穿孔，甚至失明。
3、灭火方法
切断气源【yuán】。若不能立即切断气源【yuán】，则【zé】不允许熄灭正在燃烧的气体，喷【pēn】水冷却容【róng】器，可能的话将容【róng】器从火场【chǎng】移至空旷处【chù】。
4、储运注意事项
易【yì】燃、腐蚀性压【yā】缩气体。禁忌卤素、酰基【jī】氯，酸类【lèi】、氯仿，强【qiáng】氧化剂【jì】。储存于阴凉、干燥【zào】、通风处。远离【lí】火种、热源。防止阳光【guāng】直射。应【yīng】与卤素、酸【suān】类【lèi】等分开存放。罐【guàn】储时要有防火防暴技术措施【shī】。配备相应品种和数量的消防器【qì】材【cái】。禁止使用易【yì】产生火花【huā】的机械设备和工具。验收时要注意品名【míng】。注意验瓶日期，先进仓的先发用。槽【cáo】车运送时要罐装适量，不可超压超量运【yùn】输。搬【bān】运时轻装轻卸【xiè】，防止钢瓶及【jí】部【bù】件破坏。运输按规定路线【xiàn】行驶【shǐ】，中途不得【dé】停【tíng】驶。
5、急救措施
皮肤接触【chù】:立即【jí】脱去污【wū】染的衣着,用大【dà】量流动的清水彻【chè】底清洗。或用3%硼酸溶液冲洗【xǐ】。若有灼伤，就【jiù】医【yī】治疗。
眼睛接触：立即【jí】提起【qǐ】眼帘，用流动清水或生【shēng】理【lǐ】盐水冲洗至少15分钟。立即【jí】就医。
吸【xī】入：迅速脱离现场至空气新鲜处。保持【chí】呼吸【xī】道通【tōng】畅。呼吸困难时给输氧。呼吸停【tíng】止【zhǐ】时【shí】，立即进行人【rén】工呼吸。就医。
空气中【zhōng】浓度【dù】超标时，必须【xū】佩戴防毒【dú】口罩，戴化学【xué】安全防护【hù】眼【yǎn】睛，穿工作【zuò】服，必要时戴【dài】防护手套，紧急事态抢救或【huò】逃生时【shí】建议佩【pèi】带自给式呼吸器，工作现【xiàn】场【chǎng】禁止吸烟，进食和引水，工作【zuò】后淋浴更衣。保持良好【hǎo】的工作习惯。
甲硅烷(SIH4)
1、特性
无色气体，有恶臭。易溶于苯，四氯化碳。
2、危险性
遇明火、高热极易【yì】燃【rán】烧【shāo】，暴露在空气能自燃。与氟、氯等能发生剧【jù】烈的化学反应。吸入甲【jiǎ】烷蒸气【qì】后，引起头痛、头晕、发【fā】热、恶心、多汗，严重者面色苍白，脉搏微弱【ruò】，陷入半昏迷【mí】状【zhuàng】态【tài】。
3、灭火方法
切断【duàn】气源，若【ruò】立即不能切断气源，则不允许【xǔ】熄灭正在【zài】燃烧的气体，喷水冷【lěng】却容【róng】器，可【kě】能的话将容器【qì】从【cóng】火场移至空【kōng】旷处。灭火【huǒ】剂用二氧化【huà】碳。禁止用卤【lǔ】代烷灭火剂。
4、操作处置与存储
穿【chuān】戴一般防护用品【pǐn】。确保钢瓶、设【shè】备及管路【lù】严【yán】密不泄漏【lòu】。工【gōng】作间为甲类防火防暴单【dān】元，电气设施【shī】为防暴型【xíng】，严禁火种【zhǒng】入内，禁用易【yì】产生火花【huā】的机械及工具、通风良好、保持干【gàn】燥。遵【zūn】守【shǒu】气瓶安全检查规程有【yǒu】关规定【dìng】。存储于阴凉通【tōng】风仓【cāng】间内，远离火【huǒ】种、热源，钢【gāng】瓶温度不大于52℃，防止阳光直射，保【bǎo】持容器密【mì】封，应与氧化剂分开【kāi】存放【fàng】。存【cún】储间内的照明【míng】/通风等设施应采【cǎi】用防暴【bào】型，开关设【shè】在仓外。配备相应品种和数量的消防器材。禁【jìn】止使【shǐ】用易产生火花的机械设备和工具【jù】。禁止【zhǐ】撞击和震荡。搬运时轻装轻卸，防【fáng】止钢瓶【píng】及部件【jiàn】破坏。
5、泄露应急处理
迅速撤离泄露【lù】污染区，人员至上风处【chù】，并【bìng】隔离至【zhì】气体【tǐ】散去，切断火源【yuán】。建议应急【jí】处理人员戴自给正压式呼【hū】吸器，穿一【yī】般消防护符，切断气源，喷洒雾状水稀释、抽排(室内)或【huò】强力【lì】通风(室【shì】外【wài】)。如有【yǒu】可能，将残余气或漏出气【qì】用排风机【jī】送【sòng】至水洗塔或【huò】与塔相连的通风橱内，漏气容器不能再用，且要【yào】经过技【jì】术处理，以除【chú】去可【kě】能剩下的【de】气体。
工程控制：生产过程密闭。全面通风。
吸入:脱离【lí】现场【chǎng】至【zhì】空气新鲜处。保持【chí】呼吸道【dào】通畅。必要时进行人工呼【hū】吸。就【jiù】医。
呼吸系统防【fáng】护：空气【qì】中浓度超【chāo】标时【shí】，应佩带防毒口罩。必要【yào】时佩【pèi】带自给式呼吸【xī】器。
眼睛防护：一般不需特殊防护。高浓度接触时可戴安全防护眼镜。
手防护：一般不需特殊。
其它： 工作现场禁止吸烟。进入罐【guàn】或其【qí】它【tā】高浓度区作业，必【bì】须【xū】有【yǒu】人监护。
